美(mei)國HFMicro TSCM流(liu)動(dong)電流(liu)儀
實(shi)時(shi)檢(jian)測(ce)離(li)子和膠(jiao)體(ti)電荷(he),確(que)保(bao)絮凝(ning)劑投(tou)加(jia)的(de)*化(hua)。與(yu)其(qi)他(ta)系統(tong)不(bu)同(tong),該儀器(qi)可以(yi)校準(zhun)到壹(yi)個(ge)已知的(de)離(li)子電荷(he)值(zhi),壹(yi)旦(dan)校準(zhun),操(cao)作者可(ke)用(yong)MSCM確(que)定工(gong)廠(chang)絮凝(ning)劑投(tou)加(jia)Z佳(jia)的(de)控制(zhi)設(she)置(zhi)點(dian)。
更新日期(qi):2016-10-20型(xing)號:Micro TSCM1/2/19549/廠(chang)商性(xing)質:代(dai)理(li)商瀏(liu)覽量(liang):2983